50 × 60 × 40 cm Material Polierter Tester Multifunktional Feuerfest

HZ-1728 Material polierter Tester

Ausstattungsbeschreibung:

HZ-1728 Material poliert Tester poliert, abgenutzt dünn oder schleifen Sie die erforderliche Dicke der Probe.

Tester für polierte Oberflächen
Das Gebrauchsmuster gehört zu einer Detektionsvorrichtung, insbesondere zu einem Detektor für polierte Oberflächen, der winzige Defekte und Verunreinigungen auf einer Waferoberfläche oder einem Waferuntergrund effektiv detektieren kann.
Mit der rasanten Entwicklung der Mikroelektronik-Technologie nimmt die Zahl der auf Halbleiterwafern integrierten Transistoren zu.Wissenschaftler der Fairchild Semiconductor Corporation in den Vereinigten Staaten schlugen vor Jahrzehnten vor, dass sich die Anzahl der Transistoren, die auf einer bestimmten Fläche von Wafern hergestellt werden können, alle achtzehn Monate verdoppeln wird.In den vergangenen zwei Jahrzehnten folgte der Integrationsfortschritt diesem Gesetz, und Wissenschaftler prognostizieren, dass dieses Gesetz auch in den nächsten zehn bis zwanzig Jahren noch Bestand haben wird.Daher wird die von jedem Transistor auf dem Wafer belegte Fläche immer kleiner.Es wird vorhergesagt, dass in naher Zukunft jeder Transistor nur noch aus einem Dutzend oder noch weniger Kristallatomen bestehen wird.Dieser Entwicklungstrend hat strengere Anforderungen an die Entwicklung und Produktion von Halbleiterwafern gestellt.Kleine Defekte oder Verunreinigungen beeinträchtigen die Leistung des Geräts ernsthaft und führen sogar zum Ausfall des Geräts.Bei der Entwicklung und Produktion von groß- und höchstintegrierten Schaltungen besteht der erste Schritt darin, Wafer mit kleinen Defekten oder Verunreinigungen auszusortieren, da sonst die Ausbeute ernsthaft beeinträchtigt wird.Daher wird die Detektion von Mikrodefekten und Verunreinigungen auf der Oberfläche oder unter der Oberfläche des mechanochemisch polierten Wafers allmählich zu einer der Schlüsseltechnologien in Bezug auf die Qualität des polierten Wafers aus Halbleitermaterialien und die Ausbeute bei der Herstellung von Bauelementen.Leider gibt es derzeit kein Gerät, das mikroskopische Defekte und Verunreinigungen auf der Waferoberfläche oder darunter effektiv erkennen kann.
Der Zweck dieses Gebrauchsmusters besteht darin, einen Polieroberflächendetektor bereitzustellen, der die Topographie der Oberfläche und den Untergrund der Polieroberfläche auf einem geeigneten Medium in Form eines visuellen Bildes genau anzeigen kann und gleichzeitig die Oberfläche und Unter der Oberfläche innewohnende, aufgrund von Verarbeitungs- und Umgebungsfehlern erscheinen im Bild.Zu den Materialien, die es erkennen kann, gehören im Allgemeinen Metalle, Halbleitermaterialien und andere feste Substanzen mit ähnlichen Eigenschaften.
Wie oben konzipiert, ist das technische Schema des vorliegenden Gebrauchsmusters: ein Detektor für polierte Oberflächen, der dadurch gekennzeichnet ist, dass er aus einem Chassis, einer Steuervorrichtung, einer Lichtquellenvorrichtung, die in dem Chassis angeordnet ist, einer Probentransportvorrichtung, einer Bildgebungsbildschirm und ein Kameragerät;wobei die Probenbeförderungsvorrichtung besteht aus: Die Vorrichtung ist mit der Probenbeförderungssteuerschaltung verbunden;die Abbildungsvorrichtung mit der Abbildungssteuerschaltung verbunden ist;die Steuerschaltung eine Verstärkungs-, Brennweiten-, Blendensteuerschaltung und eine Übersetzungsstufen-Steuerschaltung enthält;die Eingangsenden der obigen Steuerschaltungen sind alle mit dem Ausgang der Steuervorrichtung in der Steuervorrichtungsendverbindung verbunden: Die Ausgangsseite der Kameravorrichtung ist mit der Eingangsseite des Monitors verbunden.

Technische Parameter: